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Sustancias químicas electrónicas del grado

Agente de limpieza de semiconductores HFO-1233zd(Z) - limpieza de precisión de grado semiconductor, sostenible y conforme a la normativa HCFC-141B Sustituyente de la limpieza industrial versátil

Todas Las Categorías

Solventes de la química orgánica

Sustancias químicas electrónicas del grado

Glicol del polipropileno de PPG

Sustancias químicas cosméticas

Sustancias químicas de la capa de papel

Sustancia química diversa

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Agente de limpieza de semiconductores HFO-1233zd(Z) - limpieza de precisión de grado semiconductor, sostenible y conforme a la normativa HCFC-141B Sustituyente de la limpieza industrial versátil

Nombre De La Marca:	Chemfine
Número De Modelo:	HFO-1233zd
MOQ:	1000 kg
Condiciones De Pago:	LC, T/T

Información detallada

Descripción de producto

Información detallada

Lugar de origen:

Porcelana

Resaltar:

Limpieza de precisión de grado semiconductor HFO-1233zd(Z)

Reemplazo de HCFC-141B sustentable y que cumple con las regulaciones

Solución de limpieza industrial versátil Agente de limpieza de semiconductores

Descripción de producto

Sustitución de agentes de limpieza de semiconductores

HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFCs de sustitución Cas 99728-16-2

Puntos de venta del producto

El HCFC-141B ideal para reemplazar:Nuestro HFO-1233zd(Z ofrece un rendimiento de limpieza equivalente al HCFC-141B con un perfil ambiental superior, lo que lo convierte en el reemplazo perfecto para los procesos de limpieza existentes.
Limpieza de precisión para semiconductores:Con una pureza ultra alta y niveles de impurezas controlados, nuestro CAS 99728-16-2 está especialmente diseñado para la limpieza de obleas de semiconductores, la eliminación de fotoresistentes y la limpieza de componentes electrónicos de precisión.
Sostenible y conforme a la normativa:Potencial cero de agotamiento de la capa de ozono y potencial de calentamiento global muy bajo, totalmente conforme con el Protocolo de Montreal, las regulaciones de la UE sobre gases fluorados y el programa SNAP de la EPA de los EE.UU.
Solución de limpieza industrial versátil:Adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluida la desengrase de metales, la limpieza de componentes aeroespaciales, la desengrase de vapor y los sistemas de limpieza basados en disolventes.
Seguro y fácil de manejar:No inflamable, de baja toxicidad, compatible con la mayoría de los materiales comunes utilizados en equipos de limpieza industriales, reduciendo los riesgos operativos y simplificando la integración de los procesos.

Introducción del producto

HFO-1233zd(Z), también conocido como Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropeno, está identificado por el número CAS 99728-16-2. Es un disolvente de hidrofluoroolefina (HFO) ecológico de próxima generación, especialmente desarrollado como sustituto de alto rendimiento del HCFC-141B,HFO-1336mz, FS-39 y otros HCFC que agotan la capa de ozono y disolventes fluorados de alto GWP.

Con un potencial de reducción cero de la capa de ozono (ODP), un potencial de calentamiento global (GWP) muy bajo y una solvencia excelente,HFO-1233zd(Z) se ha convertido en el agente de limpieza preferido para la industria de fabricación de semiconductores y electrónicaSe utiliza ampliamente en la limpieza de precisión, desengrasamiento de vapor, eliminación de residuos de fotoresistencia y otros procesos críticos de limpieza industrial.ofrecer un rendimiento de limpieza fiable y al mismo tiempo ayudar a los fabricantes a cumplir con las regulaciones ambientales mundiales.

Aplicaciones detalladas

Fabricación de semiconductores y electrónica

Uso primario para la limpieza de precisión de las obleas semiconductoras, eliminando los residuos de fotoresistencia, contaminantes orgánicos y partículas finas de las obleas y componentes electrónicos;Ideal para procesos de limpieza en salas limpias.

Desengrasamiento por vapor industrial

Se utiliza en sistemas de desengrasamiento de vapor para componentes metálicos, plásticos y cerámicos, eliminando eficazmente aceites, grasas, residuos de flujo y fluidos de mecanizado.

Ingeniería aeroespacial y de precisión

Para la limpieza de componentes aeroespaciales de alta precisión, piezas ópticas y dispositivos médicos, garantizando cero residuos y altos estándares de limpieza.

Refrigerador y auxiliar de soplado de espuma

También se utiliza como agente de soplado de bajo GWP para espumas de poliuretano y como componente de mezclas de refrigerantes de bajo GWP.

Limpieza industrial general

Adecuado para el desengrasamiento de gran peso, la limpieza de placas de circuito y otras aplicaciones de limpieza industrial que requieren una alta solvencia y cumplimiento ambiental.

Propiedades físicas básicas

Propiedad	Valor/Descripción
Número CAS	99728-16-2
Nombre químico	Cis-1-clor-3,3,3-trifluoropropeno (HFO-1233zd(Z))
Fórmula molecular	(Z) -CF3CH=CHCl
Peso molecular	130.5 g/mol
Punto de ebullición (1 atm)	39.0 °C
Punto de fusión	-101,0 °C
Densidad del líquido (20°C, 760 mmHg)	1.312 ± 0,06 g/cm3
Viscosidad a 25°C	0.37 mPa·s
Presión de vapor a 20°C	49 kPa
Solubilidad en agua	950 ppm
Punto de inflamación	No hay
Valor de KB	34

Especificaciones técnicas

Sección 1	Especificación	Resultado estándar
Purificación (Wt%)	≥ 99 años8	≥ 99 años8
Humedad (Wt%)	≤ 0002	≤ 0002
Acidez (en HCl, Wt%)	≤ 00001	≤ 00001
Residuos de evaporación (Wt%)	≤ 001	≤ 001
Prueba de cloruro	Pasado.	Pasado.

Aplicaciones especializadas

Limpieza de obleas de semiconductores

Nuestro HFO-1233zd(Z) está especialmente formulado para los estrictos requisitos de la fabricación de semiconductores, eliminando eficazmente los residuos fotoresistentes,Contaminantes orgánicos y partículas submicrónicas de las obleas de silicio sin dañar las delicadas estructuras de las obleasSu ultra alta pureza asegura cero contaminación, lo que lo hace ideal para la producción de semiconductores de nodo avanzado.

Desengrasamiento de vapor de precisión

Con un punto de ebullición adecuado y una solvencia excelente, el HFO-1233zd(Z) es perfecto para sistemas de desengrasamiento de vapor, proporcionando una limpieza rápida y sin residuos para el metal,Componentes de plástico y cerámica en todo el sector automotrizSu naturaleza no inflamable garantiza un funcionamiento seguro en equipos de desengrasamiento a alta temperatura.

HCFC-141B y sustitución de solventes de alto GWP

Como sustituto de HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 y otros disolventes fluorados de alto GWP,Nuestro HFO-1233zd(Z mantiene un rendimiento de limpieza equivalente al tiempo que elimina el riesgo de agotamiento de la capa de ozono y reduce la huella de carbono, que ayuda a los fabricantes a pasar sin problemas a procesos de limpieza respetuosos con el medio ambiente sin necesidad de modificar costosos equipos.

Packaging y logística

Embalaje estándar:25 kg de tambores de acero aprobados por las Naciones Unidas, 250 kg de tambores de acero o 1000 kg de bolsas IBC.

El almacenamiento:Conservar en un almacén fresco, seco y bien ventilado, alejado de la luz solar directa, las fuentes de calor y los materiales incompatibles.

Clase de seguridad:No inflamable, químico de baja toxicidad, conforme a las regulaciones internacionales de transporte de mercancías peligrosas.

Sinónimos

Cis-1-clor-3,3,3-trifluoropropeno; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; HCFC-141B Sustitución; CAS 99728-16-2

Preguntas frecuentes

P: ¿Es el HFO-1233zd(Z) un sustituto directo del HCFC-141B?

R: Sí, el HFO-1233zd(Z) tiene una solvencia, un punto de ebullición y una compatibilidad de materiales similares a los HCFC-141B, lo que lo convierte en un sustituto práctico para la mayoría de los procesos de limpieza y desengrasamiento existentes,con mínimo o ningún tipo de modificaciones del equipo requeridas.

P: ¿Cuál es el perfil ambiental de HFO-1233zd(Z)?

A: El HFO-1233zd(Z tiene un potencial de agotamiento de la capa de ozono cero (ODP) y un potencial de calentamiento global (GWP) muy bajo inferior a 1, por lo que cumple plenamente con el Protocolo de Montreal,Regulaciones de la UE sobre gases fluorados y programa SNAP de la EPA de los Estados Unidos para su uso como disolvente de limpieza.

P: ¿Es HFO-1233zd(Z) inflamable?

R: No, el HFO-1233zd(Z) no tiene punto de inflamación, por lo que no es inflamable en condiciones normales de funcionamiento, lo que reduce significativamente los riesgos de incendio en las instalaciones de limpieza y fabricación industriales.

P: ¿Qué grados de pureza de HFO-1233zd(Z) ofrece?

R: Ofrecemos calidad industrial estándar (pureza ≥99,5%) y calidad electrónica/semiconductor (pureza ≥99,8%) HFO-1233zd(Z), con estricto control de la humedad,Acidez y impurezas residuales para satisfacer las necesidades de diferentes aplicaciones.

Etiquetas:

4746-97-8

2 4 6-Tri- (6-aminocaproic ácido) - 1 triazina 3 5

modificante de la pintura del cas 80584-91-4

Detalles De Los Productos

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Sustancias químicas electrónicas del grado

Agente de limpieza de semiconductores HFO-1233zd(Z) - limpieza de precisión de grado semiconductor, sostenible y conforme a la normativa HCFC-141B Sustituyente de la limpieza industrial versátil

Todas Las Categorías

Solventes de la química orgánica

Añadidos de capa

Sustancias químicas electrónicas del grado

Photoinitiator ULTRAVIOLETA

Glicol del polipropileno de PPG

Intermedios farmacéuticos

Amina del poliéter

Sustancias químicas cosméticas

Pigmento químico

Colorante químico

Aditivos alimenticios

Intermedios agroquímicos

Sustancias químicas de la capa de papel

Sustancia química diversa

Agente de limpieza de semiconductores HFO-1233zd(Z) - limpieza de precisión de grado semiconductor, sostenible y conforme a la normativa HCFC-141B Sustituyente de la limpieza industrial versátil

Nombre De La Marca:	Chemfine
Número De Modelo:	HFO-1233zd
MOQ:	1000 kg
Condiciones De Pago:	LC, T/T

Información detallada

Descripción de producto

Información detallada

Lugar de origen:

Porcelana

Nombre de la marca:

Chemfine

Número de modelo:

HFO-1233zd

Cantidad de orden mínima:

1000 kg

Condiciones de pago:

LC, T/T

Resaltar:

Limpieza de precisión de grado semiconductor HFO-1233zd(Z)

Reemplazo de HCFC-141B sustentable y que cumple con las regulaciones

Solución de limpieza industrial versátil Agente de limpieza de semiconductores

Descripción de producto

Sustitución de agentes de limpieza de semiconductores

HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFCs de sustitución Cas 99728-16-2

Puntos de venta del producto

El HCFC-141B ideal para reemplazar:Nuestro HFO-1233zd(Z ofrece un rendimiento de limpieza equivalente al HCFC-141B con un perfil ambiental superior, lo que lo convierte en el reemplazo perfecto para los procesos de limpieza existentes.
Limpieza de precisión para semiconductores:Con una pureza ultra alta y niveles de impurezas controlados, nuestro CAS 99728-16-2 está especialmente diseñado para la limpieza de obleas de semiconductores, la eliminación de fotoresistentes y la limpieza de componentes electrónicos de precisión.
Sostenible y conforme a la normativa:Potencial cero de agotamiento de la capa de ozono y potencial de calentamiento global muy bajo, totalmente conforme con el Protocolo de Montreal, las regulaciones de la UE sobre gases fluorados y el programa SNAP de la EPA de los EE.UU.
Solución de limpieza industrial versátil:Adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluida la desengrase de metales, la limpieza de componentes aeroespaciales, la desengrase de vapor y los sistemas de limpieza basados en disolventes.
Seguro y fácil de manejar:No inflamable, de baja toxicidad, compatible con la mayoría de los materiales comunes utilizados en equipos de limpieza industriales, reduciendo los riesgos operativos y simplificando la integración de los procesos.

Introducción del producto

Aplicaciones detalladas

Fabricación de semiconductores y electrónica

Desengrasamiento por vapor industrial

Se utiliza en sistemas de desengrasamiento de vapor para componentes metálicos, plásticos y cerámicos, eliminando eficazmente aceites, grasas, residuos de flujo y fluidos de mecanizado.

Ingeniería aeroespacial y de precisión

Para la limpieza de componentes aeroespaciales de alta precisión, piezas ópticas y dispositivos médicos, garantizando cero residuos y altos estándares de limpieza.

Refrigerador y auxiliar de soplado de espuma

También se utiliza como agente de soplado de bajo GWP para espumas de poliuretano y como componente de mezclas de refrigerantes de bajo GWP.

Limpieza industrial general

Adecuado para el desengrasamiento de gran peso, la limpieza de placas de circuito y otras aplicaciones de limpieza industrial que requieren una alta solvencia y cumplimiento ambiental.

Propiedades físicas básicas

Propiedad	Valor/Descripción
Número CAS	99728-16-2
Nombre químico	Cis-1-clor-3,3,3-trifluoropropeno (HFO-1233zd(Z))
Fórmula molecular	(Z) -CF3CH=CHCl
Peso molecular	130.5 g/mol
Punto de ebullición (1 atm)	39.0 °C
Punto de fusión	-101,0 °C
Densidad del líquido (20°C, 760 mmHg)	1.312 ± 0,06 g/cm3
Viscosidad a 25°C	0.37 mPa·s
Presión de vapor a 20°C	49 kPa
Solubilidad en agua	950 ppm
Punto de inflamación	No hay
Valor de KB	34

Especificaciones técnicas

Sección 1	Especificación	Resultado estándar
Purificación (Wt%)	≥ 99 años8	≥ 99 años8
Humedad (Wt%)	≤ 0002	≤ 0002
Acidez (en HCl, Wt%)	≤ 00001	≤ 00001
Residuos de evaporación (Wt%)	≤ 001	≤ 001
Prueba de cloruro	Pasado.	Pasado.

Aplicaciones especializadas

Limpieza de obleas de semiconductores

Desengrasamiento de vapor de precisión

HCFC-141B y sustitución de solventes de alto GWP

Packaging y logística

Embalaje estándar:25 kg de tambores de acero aprobados por las Naciones Unidas, 250 kg de tambores de acero o 1000 kg de bolsas IBC.

El almacenamiento:Conservar en un almacén fresco, seco y bien ventilado, alejado de la luz solar directa, las fuentes de calor y los materiales incompatibles.

Clase de seguridad:No inflamable, químico de baja toxicidad, conforme a las regulaciones internacionales de transporte de mercancías peligrosas.

Sinónimos

Cis-1-clor-3,3,3-trifluoropropeno; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; HCFC-141B Sustitución; CAS 99728-16-2

Preguntas frecuentes

P: ¿Es el HFO-1233zd(Z) un sustituto directo del HCFC-141B?

P: ¿Cuál es el perfil ambiental de HFO-1233zd(Z)?

P: ¿Es HFO-1233zd(Z) inflamable?

P: ¿Qué grados de pureza de HFO-1233zd(Z) ofrece?

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